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Periodical
Cell Reports Physical Science
ISSN: 26663864

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Periodical
Journal of Mechanical Engineering

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Periodical
ACS materials Au.
Author:
ISSN: 26942461 Year: 2021 Publisher: Washington, DC : ACS Publications,


Book
Architectures of weaving : from fibers and yarns to scaffolds and skins
Author:
ISBN: 3868598316 Year: 2023 Publisher: Berlin : Jovis Verlag GmbH,

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Architectures of Weaving reimagines the art of weaving as the combined result of fiber techniques and cultural practice. Addressing today’s urgent energetic and environmental challenges, the book explores new approaches for resilient and adaptable material systems by examining the boundaries between softness and rigidity, material and shape, and functionality and structure. With the aim of fostering interdisciplinary research and developing sustainable practices, this thoughtfully designed book assembles contributions by practitioners and theoreticians working in the fields of anthropology, architecture, art, biology, cultural history, design, materials science, and textile technology. Architectures of Weaving untersucht die Idee des Textilen als Kombination von Fasertechniken und baukultureller Praxis. Mit Blick auf die drängenden energetischen und ökologischen Herausforderungen unserer Zeit erforscht das Buch neue Ansätze anpassungsfähiger und resilienter Materialsysteme, indem es die Grenzen zwischen Weichheit und Stabilität, Material und Form sowie Funktionalität und Struktur auslotet. Mit dem Ziel, interdisziplinären Austausch anzuregen und nachhaltige Praktiken zu entwickeln, versammelt diese durchdacht gestaltete Publikation Beiträge von Praktiker*innen und Theoretiker*innen aus den Bereichen Architektur, Anthropologie, Biologie, Design, Kunst, Kulturgeschichte, Materialwissenschaft und Textiltechnologie.


Book
Konservierung und Pflege von Kulturgut
Author:
ISBN: 3839449146 9783839449141 9783837649147 Year: 2020 Publisher: [Place of publication not identified]

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Kunstschätze und Kulturgut benötigen besondere Pflege, um sie möglichst lange bewahren zu können. Der Ansatz der »Präventiven Konservierung« gibt dazu alle wichtigen Informationen an die Hand. Doch wie setzt man die Theorie in der Praxis um? Kurz und knapp stellt Sabine Maurischat die unterschiedlichen Werkstoffe der Konservierung vor und vermittelt einen Eindruck zur Materialität von Kulturgütern. In Schritt-für-Schritt-Anleitungen - praxisnah und verständlich - erklärt sie, wie Objekte gehandhabt, inventarisiert, verpackt und für Ausstellungen vorbereitet werden. Dabei geht es immer um einen Kompromiss zwischen den zwei Grundpfeilern der musealen Arbeit: Bewahren und Vermitteln. »Sabine Maurischat hat einen Leitfaden geschrieben, der drei Bücher in einem enthält.« Vier Viertel Kult, Herbst 2020 Besprochen in: Newsletter Museumsverband Niedersachsen und Bremen e.V., 6 (2020)


Book
Nanoparticle engineering for chemical-mechanical planarization : fabrication of next-generation nanodevices
Authors: ---
ISBN: 0429291892 1420059114 1420059130 0367446065 9781000023367 1000023362 9780429291890 9781000023220 1000023222 9781000023299 100002329X Year: 2009 Publisher: Taylor & Francis

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Abstract

In the development of next-generation nanoscale devices, higher speed and lower power operation is the name of the game. Increasing reliance on mobile computers, mobile phone, and other electronic devices demands a greater degree of speed and power. As chemical mechanical planarization (CMP) progressively becomes perceived less as black art and more as a cutting-edge technology, it is emerging as the technology for achieving higher performance devices. Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the CMP process, including dielectric CMP, shallow trend isolation CMP, metal CMP, poly isolation CMP, and noble metal CMP. The authors provide a detailed guide to nanoparticle engineering of novel CMP slurry for next-generation nanoscale devices below the 60nm design rule. They present design techniques using polymeric additives to improve CMP performance. The final chapter focuses on novel CMP slurry for the application to memory devices beyond 50nm technology. Most books published on CMP focus on the polishing process, equipment, and cleaning. Even though some of these books may touch on CMP slurries, the methods they cover are confined to conventional slurries and none cover them with the detail required for the development of next-generation devices. With its coverage of fundamental concepts and novel technologies, this book delivers expert insight into CMP for all current and next-generation systems.


Periodical
Revista de Ciencias Tecnológicas
ISSN: 25941925

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